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等離子清洗機因其高效的表面處理能力而廣受歡迎,在眾多行業領域內發揮著關鍵作用。這種設備利用等離子體技術,能夠去除材料表面的有機污染物,改善粘接、涂裝和印刷工藝的...
[查看詳情]等離子去膠機是應用等離子技術進行表面處理的設備,具有高效、環保等特點,被廣泛應用于汽車制造、電子設備維修以及半導體制造等領域。在這種技術的幫助下,材料表面的清潔、改性或涂層去除等工序得以精準且高效地完成。1.工作原理:等離子去膠機主要通過產生等離子體,即電離狀態的氣體,其中帶電的粒子在電場的作用下高速運動,對目標材料表面進行轟擊。這種高速轟擊可以去除表面分子,實現清潔或表面改性的效果。在半導體制造過程中,等離子體技術被用于刻蝕工藝,其中的離子對被刻蝕的表面進行撞擊,形成損傷層...
[查看詳情]應用案例
等離子清洗特點是不分處理對象的基材類型,均可進行處理,對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料等都能很好地進行超清洗。
圖為PLUTO-T等離子清洗機對陶瓷基板上銀氧化層的清洗實例。
等離子清洗機可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除,以及去除光學元件、半導體元件表面的光阻材料等。
圖為PLUTO-MD等離子去膠機對PCB板和硅片的去膠實例。
改善粘合力-用于光學元件、生物醫學、封裝領域等;
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等,增強表面粘附性、浸潤性、相容性;
圖為PLUTO-M對線路板、橡膠管和手機膜的表面改性實例。
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見的一種形式,其原理是暴露在電子區域的氣體形成等離子體,電離氣體原子通過電場加速時,會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。